BOE缓冲氧化物刻蚀液BOE 20:1 (Buffered O×ide Etch )

BOE缓冲氧化物刻蚀液说明书

英文名称 Buffered oxide etchant (BOE)

别名 缓冲HF

英文别名 Buffered HF, BHF

储存条件：勿存放于玻璃器皿。RT， 1年。

产品介绍

缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）是一种用于微细加工的液体腐蚀剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）的薄膜。它是氟化铵（NH4F）和氢氟酸（HF）等缓冲液的混合物。浓缩的 HF 蚀刻二氧化硅的速度太快，不能很好地进行工艺控制，同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。

应用

BOE 6:1 is 6 parts by volume 40% ammonium fluoride and 1 part by volume 49% HF.缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）6：1可用于栅极光刻（gate photolithography）的AlGaN / GaN基高电子迁移率晶体管的氧化物去除。它可用于缓冲氧化物蚀刻剂法，制造微型生物芯片。

含表面活性剂的缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）6：1可用于去除基于AlGaN/GaN 高电子迁移率晶体管的氧化物，用于栅极光刻。也可用于缓冲氧化物蚀刻剂方法，制造微生物芯片。

缓冲氧化物蚀刻剂(BOE) 10:1可用于刻蚀微机电系统 (MEMS)用碳化钛。也可用于旋涂掺杂材料(SOD)的蚀刻，用于开发导体-绝缘体-导体隧穿二极管。它还用于提高熔融石英器件的表面质量。

使用说明：

1、按实验要求进行

注意事项：

1. 产品信息仅供参考。
2. 本产品仅供科研使用。请勿用于医药、临床诊断或治疗，食品及化妆品等用途。请勿存放于普通住宅区。
3. 为了您的安全和健康，请穿好实验服并佩戴一次性手套和口罩操作。